设备简介
该系统采用世界先进的工艺，配合美国陶氏反渗透膜元件以及原装进口的EDI膜块，产生的水一般是1-18MΩ﹒cm范围的超纯水，适用于单/多晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装、引线柜架、集成电路、 液晶显示器、导电玻璃、电池（蓄电池）、显像管、线路板、光通信、电脑元件、电容器、洁净产品及各种元器件等电子行业生产工艺用水。
典型的工艺流程
原水 + 原水泵 + 石英砂过滤器 +活性炭过滤器 + 软化器 + 精密过滤器 +一级反渗透 + 一级纯水箱 + 二级反渗透 + 二级纯水箱 + 增压泵+TOC-UV装置 + 精密过滤器 + EDI装置 + 抛光混床